离子束溅射镀膜与清洗多功能平台是在真空环境中，利用离子轰击靶材表面，使溅射出的粒子沉积在基片上，进而获得大面积纳米至微米级厚度的均匀膜层。技术指标如下：

1. 极限真空度：≤6.0×10^-5 Pa (经烘烤除气后)；

2. 系统真空检漏漏率：≤5.0x10^-7 Pa.l/S；

3. 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6.0×10^-4 Pa；

4. 停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa；

5. 溅射真空室尺寸Ф 450mm ×350mm，电动上掀盖结构，可内烘烤100～ 150℃ ，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；

6. 磁控溅射靶材尺寸为Φ3英寸，2路500W射频溅射，1路500W直流溅射，射频溅射与直流溅射兼容，可实现单靶独立，多靶轮流、组合共溅等工作模式，靶内有水冷，有电动控制挡板组件及靶屏蔽罩。三个靶可共同折向下面的样品中心，靶与样品距离90～ 110mm 可调；

7.最大可镀基片尺寸为Φ 50mm ，基片加热最高温度 600°C ± 1°C ，由热电偶闭环反馈控制；基片可连续回转，转速5～10转/分；基片可以加200V负偏压；配1套手动控制样品挡板组件及2个样品托；

8.镀膜厚度不均匀性≤5%；

9. 对泵、靶、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。

10. 镀膜自动控制。计算机控制系统实现对靶挡板、样品自转、样品控温等控制。